意德士真空吸盤,幫半導體巨人穩住良率! | 全台上櫃股票資訊網
2020年12月15日—硬體評論網站AnandTech認為,光台積電可能就安裝了全球過半EUV光刻機。再從艾司摩爾年報看,去年銷售額有51%都賣給台灣業者,全年EUV出 ...
即使是半導體設備巨人,也無法在跨步前進時,所向披靡地清除所有路障。巨人辦不到的事,正是台灣零組件供應鏈的關鍵成長機會。
艾司摩爾(ASML)是荷蘭半導體設備大廠,2019年產品銷售額排全球第二高,其中最知名的產品EUV光刻機(極紫外光曝光機,lithography machine)擁有8成市占率,一台機器動輒新台幣30億元,是研發7奈米以下先進製程的必備產品。
今年8月,艾司摩爾宣布在台南成立全球技術培訓中心,台積電晶圓廠營運副總經理王英郎致詞時點出:「有了它(EUV),才能讓相同尺寸的晶片放入更多電晶體,從1億顆成長到100億顆。」
硬體評論網站AnandTech認為,光台積電可能就安裝了全球過半EUV光刻機。再從艾司摩爾年報看,去年銷售額有51%都賣給台灣業者,全年EUV出貨26台,推估台積電約占20台,顯示雙方緊密關係。
「一間公司再怎麼強,也不會什麼都做。」意德士科技董事長闕聖哲形容,艾司摩爾就像賓士原廠,能打造頂級S-Class車款,卻沒有自己生產輪胎。而意德士就像專門生產輪胎的企業,能滿足半導體企業客製需求,讓他們開車速度更快。
跑在原廠ASML前頭,填補「關鍵缺口」闕聖哲口中的獨門輪胎,指的是半導體曝光製程中常用的「真空吸盤」,原先只是用來固定矽晶圓。
2009年,某晶圓代工大客戶發現光刻機不夠精準、影響良率,當時光刻機供應商Nikon、Canon、艾司摩爾都無法解決問題,便找上意德士想辦法。
意德士以演算法模擬出真空吸盤的最佳「曲度」,提高了晶圓曝光中的良率,雙方也一路自10奈米製程合作到3奈米製程。
闕聖哲指出,隨著每一代半導體製程往前突破,光刻機還是必須將光源準確打在愈來愈小的線徑上,不能因為光線的物理特性有所偏移。而既然「打光」設備有技術天花板,客戶只好將腦筋動到固定晶圓的吸盤底座上。
闕聖哲解釋,像艾司摩爾這樣的設備巨人,在全球賣機台時,著重的是產品標準化、規格化帶來的高毛利,就算是最大客戶...
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